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    功能化学品

    功能化学品

    类别

    产品

    英文名

    应用领域

    显影、漂洗液

    负胶显影液

    Negative PR  Developer

    IC

    负胶漂洗液

    Negative PR  Rinse

    IC

    负胶显影漂洗液

    Negative PR  Developer & Rinse

    IC

    正胶显影液(TMAH)

    Developer (TMAH)

    IC / FPD / OLED

    正胶显影液(TMAH含活性剂)

    Developer (TMAH  with surfactant)

    IC / FPD / OLED

    剥离液

    正胶剥离液(水系)

    Positive PR  Stripper (Water base)

    FPD / OLED

    正胶剥离液(有机系)

    Positive PR  Stripper (Organic base)

    IC/FPD / OLED

    剥离清洗剂(铝制程)

    Stripper  (IC- Al process)

    IC

    剥离清洗剂(铜制程)

    Stripper  (IC- Cu process)

    IC

    剥离去胶液(铝制程)

    Stripper (Al  process)

    IC / FPD

    剥离去胶液(化合物制程)

    Stripper  (Compound process)

    IC / FPD

    剥离去胶液(先进封装)

    Stripper  (Advanced packaging )

    IC

    酸性剥离液

    Nanostripper

    IC

    负胶剥离液

    Negative PR  Stripper

    IC / FPD

    清洗剂

    稀释剂

    Thiner

    IC / FPD

    边胶清洗剂(EBR)

    Edge Bead  Remover

    IC / FPD / OLED

    清洗剂(铜、铝、PI、ITO)

    Cleaner (Cu/ Al/  PI/ ITO process)

    IC / FPD / OLED

    蚀刻类

    氟化铵腐蚀液(BOE)

    BOE

    IC / FPD / OLED  / PV

    低张力氟化铵腐蚀液(BOE)

    Low tension BOE

    IC  / FPD / OLED / PV

    铝蚀刻液

    Al Etchant

    IC / FPD

    钼蚀刻液

    Mo Etchant

    IC / FPD

    钼铝/钼铝钼蚀刻液

    MoAl / MoAlMo  Etchant

    IC / FPD

    硅蚀刻液

    Si Etchant

    IC / FPD / PV

    金蚀刻液

    Au Etchant

    IC

    镍/银蚀刻液

    Ni/Ag Etchant

    IC / FPD

    铜蚀刻液

    Cu Etchant

    IC / FPD

    钛蚀刻液

    Ti Etchant

    IC / FPD

    铬蚀刻液

    Cr Etchant

    IC

    氢氟酸腐蚀液(含活性剂)

    DHF(With  surfactant)

    IC / FPD

    ITO蚀刻液

    ITO Etchant

    FPD

    其他

    增粘剂

    HMDS

    IC / FPD